삼성전자, 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산
삼성전자, 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산
  • By 연철웅 (info@koreaittimes.com)
  • 승인 2016.10.17 14:00
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삼성전자가 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산을 시작했다. 삼성전자는 지난해 1월 모바일AP에서 업계 최초로 14나노 공정 양산을 시작한 데 이어 이번에 전체 시스템 반도체업계에서 가장 먼저 10나노 공정 양산에 돌입했다고 17일 밝혔다.

10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대 대비 성능은 27% 개선하고, 소비전력은 40%를 절감했으며 웨이퍼당 칩 생산량은 약 30% 향상됐다.

10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 훨씬 정교하고 미세한 회로를 그려넣는 패터닝 작업이 필요한데, 삼성전자는 기존 장비를 활용해 패터닝 과정을 세번 반복하는 트리플패터닝 기술을 적용 미세공정의 한계를 극복하고 설계 유연성을 확보했다는 평가다.

삼성전자는 10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정을 2017년 양산 목표로 개발 중이다. 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용한다는 계획이다.

윤종식 부사장(S.LSI 사업부 파운드리 사업팀장)은 “10나노 로직공정 양산으로 미세 공정기술이 업계 최고 수준임을 다시 한 번 입증했다”며 “차별화된 반도체 솔루션을 제공해 시스템 반도체 사업을 발전시켜 나갈 것”이라고 말했다.

 


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