SK Hynix Localized a Poly Dry Etcher for 300㎜ Wafers Together With a Local SME
SK Hynix Localized a Poly Dry Etcher for 300㎜ Wafers Together With a Local SME
  • Korea IT Times (info@koreaittimes.com)
  • 승인 2013.03.13 00:15
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SEOUL, KOREA - SK Hynix worked together with APTC, a local small-sized company that manufactures semiconductor equipment, to successfully localize a poly dry etcher for 300㎜ wafers.

A poly dry etcher and a stepper are the two most important devices that are considered to improve the micro process for semiconductor fabrication. Lam Research, Applied Materials and Tokyo Electron are the three leading semiconductor device makers that dominate the related global market. The localization of a poly dry etcher is assessed to have moved Korea’s technical competitiveness of semiconductor equipment up a notch.

According to the related industry on March 11th, two poly dry etchers manufactured by the local semiconductor maker and APTC had been installed in a plant located in the middle part of Korea (Cheongju).

The localized semiconductor device has been well-received in terms of performance as it had shown the deviation of only 0.6㎚ in the 32㎚ process. Its price competitiveness is 10~15% higher than that of foreign-made equipment. The local semiconductor maker plans to conduct tests for the 20㎚-range process soon.

SK하이닉스, 국내 중소기업과 손잡고 300㎜ 웨이퍼용 폴리 건식식각기 국산화

SK하이닉스가 중소 반도체장비업체 APTC와 손잡고 300㎜ 웨이퍼용 폴리 건식식각기(드라이 에처) 국산화에 성공했다. 폴리 건식식각기는 노광기와 함께 반도체 미세공정을 진전시킬 핵심 장비로 꼽힌다. 램리서치·어플라이즈머티리얼스·도쿄일렉트론 세 회사가 세계 시장을 장악했다. 우리나라 반도체장비 기술 경쟁력을 한 차원 끌어올린 개가로 평가된다.

11일 업계에 따르면 SK하이닉스는 APTC와 공동 개발한 폴리 건식식각기 두 대를 최근 청주 공장에 설치했다.

이 장비는 32㎚ 공정에서 0.6㎚ 편차 수준으로 해외 경쟁사 제품보다 성능이 뛰어나다는 평가를 받았다. 가격 경쟁력은 외산 장비보다 10~15% 높다. SK하이닉스는 곧 20㎚대 공정 테스트도 진행할 계획이다.

우리나라 장비업체들은 200㎜ 웨이퍼용 건식식각기를 일부 국산화했지만, 300㎜ 시장 진입에 번번이 실패했다. 플라즈마 소스를 해외에 의존하며, 체임버 설계 능력도 뒤처지는 기술 한계 탓이다. APTC는 유도자기장(ICP)과 전기장(CCP)의 장점만 취합해 독자 기술로 듀얼 ACP(Adaptive Coupled Plasma)라는 새 플라즈마 소스를 개발했다. 이 회사는 2년 전 SK하이닉스에 장비 적용을 제안했으며, 두 회사가 2년 동안 필드테스트를 진행했다.

양산 검증에 성공하면서 SK하이닉스는 우선 APTC가 공급한 장비 두 대를 청주 메모리반도체 라인에 적용하고, 신규 라인에도 채택할 계획이다.

SK하이닉스가 국산화한 폴리 장비는 가장 고난도 분야다. D램·낸드플래시 등 메모리반도체뿐 아니라 애플리케이션프로세서(AP) 등 로직 반도체 생산에도 쓰인다.

SK하이닉스는 지난 2004년 300㎜팹인 M10을 처음 가동한 이래 50여개의 장비·재료를 국산화했다. 전 공정 투자 중 국산 장비 비율이 15%를 넘어섰다. 재료 국산화도 지난 2011년 50%를 넘는 결실을 거뒀다. 업계 관계자는 “APTC의 기술력과 SK하이닉스의 국산화 의지가 합쳐져 시너지 효과가 났다”며 “어디까지 장비 국산화를 진척시킬 수 있을지가 관심”이라고 말했다.

이형수기자 goldlion2@etnews.com

**Article provided by etnews [Korea IT News]

[Reference] :  http://english.etnews.com/device/2733608_1304.html


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