삼성전자는 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 개최했다. 화성 EUV라인은 올해 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년부터 가동에 들어간다.
이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선)장비가 도입된다. 회사 관계자는 “향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 기대된다”고 말했다.
반도체산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고, 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력효율을 향상시켜왔다.
그러나 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 됐다는 게 회사측의 설명이다.
EUV기술이 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있는 것은 물론, 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있다고 회사측은 덧붙였다. 삼성전자는 향후 모바일/서버/네트워크/HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이다.
화성 EUV라인의 초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억불(약 6조4700억원) 수준. 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진할 계획이다.
지난 2000년도 삼성전자 화성캠퍼스 개발로 시작된 삼성전자와 화성시의 동반성장은 이번 EUV 신규라인 건설로 더욱 확대될 전망이며, 화성시는 첨단 반도체 산업의 메카로서의 입지를 확고히 하게 됐다.
삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 "화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥, 화성, 평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이라며 "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것"이라고 말했다.
